Izvor: ITsvet.com, 24.Jul.2015, 08:35 (ažurirano 02.Apr.2020.)
TSMC testira EUV na 7nm
Kompanija TSMC je ranije govorila o korišćenju ekstremne ultraljubičaste litografije za svoj u naprednu 10nm tehnologiju ali se proizvodi koji bi bili izrađeni korišćenjem ove tehnologije nikada nisu pojavili. Sada međutim stiže informacija da bi pomenuta tehnologija mogla da se koristi za izradu delova nastalih 7nm tehnološkim procesom. Prema informacijama koje su dostupne EUV skeneri imaju lasere koji koriste 13nm talasnu dužinu koji omogućavaju kreiranje čipova mnogo finijih karakteristika. EUV će eliminisati potrebu za višešabloniranjem, čime će biti smanjeno vreme ciklusa izrade i pomoći će se da broj ispravno izrađenih delova bude mnogo veći.
Napomena: Ova vest je automatizovano (softverski) preuzeta sa sajta ITsvet.com. Nije preneta ručno, niti proverena od strane uredništva portala "Vesti.rs", već je preneta automatski, računajući na savesnost i dobru nameru sajta ITsvet.com. Ukoliko vest (članak) sadrži netačne navode, vređa nekog, ili krši nečija autorska prava - molimo Vas da nas o tome ODMAH obavestite obavestite kako bismo uklonili sporni sadržaj.
