Izvor: ITsvet.com, 28.Feb.2015, 09:15 (ažurirano 02.Apr.2020.)
TSMC novi napredak na polju litografije
TSMC i ASML su najavili dostignuće kada je reč o ekstremnoj ultraljubičastoj litografiji. Dve kompanije su objavile da je TSMC uspela da izradi više od 1000 wafera u periodu od 24 časa koristeći ASML NXE:3300B EUV sistem tokom jednog dana sa energijom od preko 90W. Ovo dostignuće je važno iz dva razloga: Prvi je taj što se laser koji stvara više od 100W energije smatra kritičnim za komercijalnu proizvodnju, pa su se proizvođači više od deset godina nadmetali koji će uspeti da kreira izvor energije na tom nivou. TSMC planira da instalira nove NXE:3350B sisteme koji će biti dopuna postojećim NXE:3300B sistemima. Puna proizvodnja je ipak još uvek godinama daleko, ali se nazire.
Napomena: Ova vest je automatizovano (softverski) preuzeta sa sajta ITsvet.com. Nije preneta ručno, niti proverena od strane uredništva portala "Vesti.rs", već je preneta automatski, računajući na savesnost i dobru nameru sajta ITsvet.com. Ukoliko vest (članak) sadrži netačne navode, vređa nekog, ili krši nečija autorska prava - molimo Vas da nas o tome ODMAH obavestite obavestite kako bismo uklonili sporni sadržaj.
